kiadvánnyal nyújtjuk Magyarország legnagyobb antikvár könyv-kínálatát
| Kiadó: | Országos Műszaki Információs Központ és Könyvtár |
|---|---|
| Kiadás helye: | Budapest |
| Kiadás éve: | |
| Kötés típusa: | Tűzött kötés |
| Oldalszám: | 44 oldal |
| Sorozatcím: | Mikroelektronikai technológiai füzetek |
| Kötetszám: | 3 |
| Nyelv: | Magyar |
| Méret: | 23 cm x 16 cm |
| ISBN: | 963-592-481-X |
| Megjegyzés: | Fekete-fehér ábrákkal. 500 példányban készült. |
| A CVD technológia elvi alapjai | 8 |
| Epitaxiális rétegnövesztés | 14 |
| EPI-CVD reaktorok | 19 |
| Az epitaxiális rétegek minősítése | 22 |
| Az LPCVD és PECVD technológia | 24 |
| Az LPCVD technológia | 28 |
| A PECVD technológia | 31 |
| SiO2, Si3N4 és poli-Si rétegek előállítása kémiai gőzfázisu rétegleválasztással | 31 |
| Szilicium-dioxid rétegek előállítása | 35 |
| Szilicium-nitrid rétegek előállítása | 36 |
| Poliszilicium rétegek előállítása | 38-44 |
Nincs megvásárolható példány
A könyv összes megrendelhető példánya elfogyott. Ha kívánja, előjegyezheti a könyvet, és amint a könyv egy újabb példánya elérhető lesz, értesítjük.