A kosaram
0
MÉG
5000 Ft
a(z) 5000Ft-os
szállítási
értékhatárig
Ginop popup ablak bezárása

Alapvető eljárások 5.

Maszkkészítés, fotolitográfia

Szerkesztő
Lektor
Budapest
Kiadó: Országos Műszaki Információs Központ és Könyvtár
Kiadás helye: Budapest
Kiadás éve:
Kötés típusa: Tűzött kötés
Oldalszám: 92 oldal
Sorozatcím: Mikroelektronikai technológiai füzetek
Kötetszám: 5
Nyelv: Magyar  
Méret: 23 cm x 16 cm
ISBN: 963592-577-8
Megjegyzés: Fekete-fehér ábrákkal. 500 példányban készült. További kapcsolódó személyek a folyóiratban.
Értesítőt kérek a kiadóról
Értesítőt kérek a sorozatról

A beállítást mentettük,
naponta értesítjük a beérkező friss
kiadványokról
A beállítást mentettük,
naponta értesítjük a beérkező friss
kiadványokról

Előszó

1. Az integrált áramköri maszkok technológiája
Bevezetés
A félvezetőgyártásban a szeleten levő mintázatot (topológia) fotolitográfiai eljárás során maszkok felhasználásával alakítják ki.
A maszk... Tovább

Előszó

1. Az integrált áramköri maszkok technológiája
Bevezetés
A félvezetőgyártásban a szeleten levő mintázatot (topológia) fotolitográfiai eljárás során maszkok felhasználásával alakítják ki.
A maszk a fotolitográfia szerszáma, a félvezető eszközt létrehozó rétegek topológiájához szükséges képi információ nagy pontosságú hordozója. Maga a maszk egy üveg lemez, amelyen a mintázatot fotoemulzió, vasoxid vagy speciális króm vékonyrétegként alakítják ki. Vissza

Tartalom

Integrált áramköri maszkok technológiája7
A maszkkészítés anyagai, kémiai technológiája8
Hordozó9
A maszkhordozók fontos mechanikai jellemzői: méret, síkbeliség, vastagság10
Bevonat13
Fotoreziszt16
Processzálás17
Ábragenerálás, optikai ábragenerátorok23
Léptetés-optikai léptetőkamerák25
A léptetőkamerák felépítése és működése27
Fotomaszkok ellenőrzése és javítása32
Fotomaszkok ellenőrzése32
Fotomaszkok javítása42
Elektronsugaras képátviteli technológia46
Raszgterpásztázó rendszerek47
Vektorpásztázó rendszerek47
Rendszertípusok49
Optikai kontra elektronlitográfia50
Irodalom52
Optikai litográfia55
A fotolitográfiás ábrakialakítás módszerei56
Maszkillesztő berendezések62
A fotoreziszt lakkok tulajdonságai63
Fényérzékeny lakkok jellemzése68
A fotolitográfiás technológia70
Többrétegű litográfiás eljárások72
Irodalom75
Elektronlitográfia77
Bevezetés77
Az elektronsugár és a lakkok kölcsönhatása77
Elektronlitogfáriai rendszerek80
Alkalmazások83
Irodalom84
Röntgenlitográfia85
A felbontóképességet befolyásoló tényezők85
Röntgenlitográfiás rendszerek87
Röntgen-maszkok88
Röntgen-sugárzásra érzékeny lakkok89
Röntgen- és elektronsugárzásra érzékeny lakkok89
Irodalom92
Megvásárolható példányok

Nincs megvásárolható példány
A könyv összes megrendelhető példánya elfogyott. Ha kívánja, előjegyezheti a könyvet, és amint a könyv egy újabb példánya elérhető lesz, értesítjük.

Előjegyzem